美国BROOKS流量计GP200 系列金属密封压力式质量流量控制器

所有的表现。没有任何限制。
GP200 系列是第一款完全不敏感的基于压力的质量流量控制器 (P-MFC)，专为半导体制造中的先进蚀刻和沉积工艺而设计。

GP200 系列 P-MFC 采用专利架构，克服了传统 P-MFC 的局限性，即使在输送低蒸气压工艺气体时也能提供最精确的工艺气体输送。它包括几个独特的设计方面，包括与下游阀门架构相结合的集成压差传感器，可在行业中最广泛的操作条件下实现最精确的工艺气体输送。

由于 GP200 系列支持如此广泛的工艺条件，它可以用作许多传统 P-MFC 和热 MFC 的直接替代和升级。它降低了气体输送系统的复杂性和拥有成本，因为它消除了对压力调节器和传感器等组件的需求。

特征

真正的差压测量
降低入口压力运行
下游阀门结构
匹配的瞬态响应
零泄漏控制阀
MultiFlo TM技术提供了无与伦比的灵活性——一个设备可以针对数千种不同的气体和流量范围配置进行编程，而无需从气体管线中移除 MFC 或影响精度
本地显示显示流量、温度、压力和网络地址
DeviceNet TM、EtherCAT®、RS-485 L-Protocol 和模拟接口

好处
通过消除匹配和补偿两个独立压力传感器的要求，GP200 差压技术降低了测量不确定性，从而提高了准确性、可重复性和漂移性能。
由于专为低压差测量而优化的 GP200 差压传感器，现在使用 P-MFC 可以在较低的入口压力下实现更安全的晶圆厂操作。
下游阀门结构确保精度独立于下游压力，使流量输送到高达 1200 Torr 的压力。快速关闭阀门解决了上游 MFC 阀门设计中出现的非生产性配方等待时间或“尾部效应”，这些阀门需要额外的时间来排出其内部气体体积。
超快、高度可重复的上升和下降流动稳定时间可在先进的高循环沉积和蚀刻工艺中实现更严格的工艺控制。
阀门关闭性能提高 100 倍
使用 MultiFlo TM，MFC 满量程流量范围通常可以按 3:1 的系数重新按比例缩小，而不会影响精度、调节比或规格泄漏，以实现最佳工艺和库存灵活性 
方便的用户显示和独立的诊断/服务端口有助于设备安装、监控和故障排除

美国BROOKS流量计主要应用
半导体制造
蚀刻
化学气相沉积 (CVD)
需要高纯度全金属流路的气流控制应用