根据你的需求为你设计产品

联系我们

无锡飞斯卡精密科技有限公司

手机:13961627187

网址:www.feiscoo.com
地址:无锡市新吴区裕安路75
  • 产品百科

美国MKS真空计-真空压力测量简介

发布日期:2022-08-05 14:33:59

美国MKS真空计-真空压力测量简介

 
介绍
气压基础
容器内的气体压力定义为单个气体分子或原子与壁碰撞而施加在容器壁上的累积力(图 1)。
美国MKS真空计气压的基本来源
图 1. 气压的基本来源。
压力被确定为力/面积或F / A。单个分子在单位时间内对容器壁施加的力等于分子与壁之间的动量传递,可以表示为:
气压的基本来源
其中t是分子与壁碰撞之间​​的时间,m是分子质量,v是其速度。因此,压力可以定义为:
IntroToVPM-Equation2_200w
其中NV是容器中的分子总数,m是分子的质量,v是其平均速度,V是容器的体积。由于分子的平均动能与绝对温度有关:
美国MKS真空计有关温度
我们可以替换并重新排列等式(2)成为:
美国MKS真空计排列公式
其中k是能量与温度之间关系的比例常数,称为玻尔兹曼常数,T是绝对温度。由于理想气体常数R只是玻尔兹曼常数乘以阿伏伽德罗数(N 0,一摩尔物质中的分子数 - 6.022×10 23),因此等式(4)完全等价于熟悉的理想气体定律:
美国MKS真空计理想气体定律
其中n是气体的摩尔数,R是理想气体常数。气体的摩尔体积是一个常数(阿伏伽德罗定律),在 STP(标准温度和压力,1 个大气压,0°C)下,一摩尔气体占据 22.4L。有关真空科学和技术分子基础的更详细讨论,请参见参考文献 [1] 和 [2]。
早期压力测量
大气压力首先由 17 世纪的科学家 Evangelista Torricelli 测量。他使用了一个装满水银的真空玻璃管,然后将其倒置在盛有水银的盘子中(这种类型的测量装置被称为水银压力计)。流体静力平衡要求玻璃管中汞柱施加的压力必须等于大气对盘中汞施加的压力。他发现,海平面上的大气对盘中汞的作用力将支撑管中 760 毫米高的汞柱。这就是这个测量系统中大气压力单位看似奇数的原因——大气压力被分为 760 个单位,称为“托” 欧洲和亚洲系统中的真空和气象测量通常指“大气”中的压力,其中 1 个大气压(称为 1 bar)是海平面的正常大气压。该系统中的真空测量值通常以 1/1000 大气压(毫巴)为单位进行报告。帕斯卡是 SI 系统中用于压力测量的单位。帕斯卡定义为每单位面积的力,等于 1 牛顿/米2 .
美国MKS真空计常用压力测量单位及其在大气压下的值
表 1. 常用压力测量单位及其在大气压下的值。
表 1 显示了压力测量的常用单位及其在大气压下的值。可以在线找到各种压力单位转换计算器(例如,https://www.unitconverters.net/pressure-converter.html)。
美国MKS真空计充满液体的压力计
图 2. 充满液体的压力计。
自 Torricelli 时代以来,充液压力计(图 2)一直作为绝对真空压力测量的基本标准使用。液体压力计对真空和压力进行直接绝对测量,通常被认为是其他压力测量设备测量的基本测量标准。
现代压力测量
直接压力测量
最常见的直接压力测量类型使用机械变形作为测量压力的基本原理。由于压力是单位面积力的量度,因此压差可以以可重复的方式使不同种类的材料元件变形。元件经受的变形程度与元件的材料特性和施加在其上的压力成正比。因此,薄而柔韧的元件可用于测量低压差,而较厚、较硬的元件可类似地用于测量高压差。可以通过多种方式测量这些元件的偏转程度,包括直接机械测量、包含该元件的设备的电气特性变化以及光学探头的偏转。
压力测量装置中常用的机械变形元件及其随压力变化的变形模式
图 3. 压力测量装置中常用的机械变形元件及其随压力变化的变形模式。
图 3 显示了可用作机械压力测量装置中的变形元件的一些结构。机械变形计包括电容压力计、波登压力计、共振膜片压力计、波纹管压力计、压电压力计等。
电容压力计
大气压和中真空压力下的直接压力测量值可以通过在机电隔膜压力计中测量金属或陶瓷薄膜的偏转来确定(图 4)。隔膜偏转与仪表中存在的气体种类无关,并且与隔膜上的压差成正比。
美国MKS真空计使用隔膜偏转的直接压力测量
图 4. 使用隔膜偏转的直接压力测量。
图4表示膜片的挠度与压差d的关系,挠度距离与压差成正比;比例常数k取决于隔膜厚度、材料和尺寸。k是通过对参考压力计进行校准来确定的。
电容压力计中的信号测量
图 5. 电容压力计中的信号测量。
通过测量电极和隔膜之间的电容(电容压力计,图 5)可以生成与压力成比例的电信号。在电容压力计中,膜片向低压侧偏转,如图 4 所示。这些压力计中膜片的偏转程度决定了与压力差 (P2 – P1) 成正比的电信号,公式如下:图 5. 在绝对压力计中,隔膜的一侧(参考腔)是一个密封的真空腔,其中压力恒定且实际上为零。绝对电容压力计通常用于过程真空测量。因此,隔膜上的压差总是以真空为参考。差动电容压力计没有参考腔 - 只是一个可以连接到任何压力或真空源的管或通道。这些压力计读取隔膜上的压力差。电容式压力计是半导体行业的真空测量主力。由于绝对电容压力计对气体成分不敏感,因此几乎在所有用于监测过程中压力的半导体工艺工具中都可以找到绝对电容压力计。差分电容压力计在需要基于压力的开关和控制的领域得到广泛应用,例如腔室负载锁定。它们通常用作安全开关和气流压降测量。这些压力计读取隔膜上的压力差。电容式压力计是半导体行业的真空测量主力。由于绝对电容压力计对气体成分不敏感,因此几乎在所有用于监测过程中压力的半导体工艺工具中都可以找到绝对电容压力计。差分电容压力计在需要基于压力的开关和控制的领域得到广泛应用,例如腔室负载锁定。它们通常用作安全开关和气流压降测量。这些压力计读取隔膜上的压力差。电容式压力计是半导体行业的真空测量主力。由于绝对电容压力计对气体成分不敏感,因此几乎在所有用于监测过程中压力的半导体工艺工具中都可以找到绝对电容压力计。差分电容压力计在需要基于压力的开关和控制的领域得到广泛应用,例如腔室负载锁定。它们通常用作安全开关和气流压降测量。由于绝对电容压力计对气体成分不敏感,因此几乎在所有用于监测过程中压力的半导体工艺工具中都可以找到绝对电容压力计。差分电容压力计在需要基于压力的开关和控制的领域得到广泛应用,例如腔室负载锁定。它们通常用作安全开关和气流压降测量。由于绝对电容压力计对气体成分不敏感,因此几乎在所有用于监测过程中压力的半导体工艺工具中都可以找到绝对电容压力计。差分电容压力计在需要基于压力的开关和控制的领域得到广泛应用,例如腔室负载锁定。它们通常用作安全开关和气流压降测量。
最常见的商用机电真空计以MKS Instruments 的 Baratron® 电容压力计为例。Baratron 电容式压力计具有高真空参考腔、焊接的耐腐蚀隔膜传感器和配置如图 6 所示的对电极。
MKS Instruments Baratron® 电容压力计
图 6. MKS Instruments Baratron® 电容压力计。
密封的参考腔被抽真空至<10 -7 Torr,真空由吸气泵维持。测量侧的高压使隔膜偏转导致隔膜和对电极之间的测量电容增加。电容的变化使仪器中的交流电桥电路失衡,产生一个电压,该电压被整流和线性化为 0 到 10 VDC 之间的模拟信号,对应于 4 个十倍数的动态压力范围。
美国MKS真空计不同类型的 Baratron® 电容压力计
图 7. 不同类型的 Baratron® 电容压力计(10 -5到 10 5 Torr)。
图 7 显示了 MKS 提供的各种Baratron 电容压力计配置适用于不同的压力和工艺环境。这些压力计通常在四个十年的范围内测量真空。它们可以提供加热和非加热版本。加热版本在 >0.1% Full Scale 时最准确和可靠,而未加热版本在 >0.5% Full Scale 时提供可比性能。所有压力计,无论制造商如何,都必须定期归零,以实现其测量的最佳精度和可重复性。当基础压力 < 0.01% 满量程时,可实现最佳调零和设备精度。在压力控制应用中使用时,量程低于 100 mTorr Full Scale 的 Baratron 电容压力计应在 >1% Full Scale 下运行;
美国MKS真空计使用 Baratron® 电容压力计的范围和压力控制
图 8. 使用 Baratron® 电容压力计的范围和压力控制。
MKS Instruments 提供具有高工作温度的标准和过程关键 Baratron 压力表。
压阻计
 
图 9. 压阻式隔膜压力计。
压阻式压力计的构造与电容式压力计类似,但使用了一个压阻元件,该元件在应变时会改变其电阻;这些元件连接到压力计隔膜上,如图 9 所示。压阻元件包括薄膜电阻器、应变仪、金属合金和多晶半导体。当隔膜向压力表的低压侧偏转时,感应曲率会使元件应变,从而改变其电阻。然后使用桥式电路将这种电阻变化转换为电输出信号。这些压力计的构造如图 10 所示,其中左侧显示了传感元件,中间显示了桥接电路,以及传感器在压力计中的物理位置。传感器,
 
图 10. 显示电桥电路的压阻式压力计的物理结构。
压阻式传感器广泛用于消费和技术应用。数以百万计的这些被整合到可以安装在汽车轮胎内的轮胎压力监测设备中。MKS Instruments 提供用于技术应用的MKS 901P和MKS 902B压阻式压力表(图 11)。MKS 901 传感器是一种差动压阻式传感器,范围为 -760 至 760 Torr,通常用于负载锁定。MKS 901P 还可以配置一个热导率计,将其范围扩展到 5x10 -4高达 1000 Torr 的高真空负载锁应用,使其非常适用于向大气开放的负载锁和传输端口。MKS 902B 是一款绝对压阻式传感器,量程为 0.1 至 1000 Torr。它经常用于无菌应用,例如冷冻干燥和等离子灭菌。902B 不应用于 1 Torr 以下的关键测量。
 
图 11. MKS Instruments 压阻式 901P 和 902B 传感器。
间接压力测量
在非常低的压力下(低于约 10 -4Torr),不同压力下隔膜偏转测量值之间的相对差异不再足够敏感,无法用于实际尺寸的压力计。因此,针对这种压力状态的真空计设计基于气体密度和一些与物种相关的分子特性(例如比热)的测量。这些仪器的两种主要类型是热导率仪和气体电离仪。热导仪通过测量从热线到周围气体的能量传递来确定气体压力。热量通过与金属丝的分子碰撞传递到气体中,这些碰撞的频率(以及因此传递的热量程度)取决于气体压力和气体分子的分子量。-4和 10 托。热导率计,包括热电偶、热敏电阻和皮拉尼计,通常相对便宜且可靠。
 
图 12. 热阴极电离规组件。
当压力下降超过 10 -3 Torr 时,热导率随压力的变化变得太小而无法用于压力测量。在高真空(低于 10 -3至 10 -9 Torr)、超高真空(UHV,1×10 -9至 1×10 -12 Torr)和极高真空(XHV,<1×10 -12Torr) 方案,压力测量最常使用气体电离计,配置为热阴极计 (HCIG) 或冷阴极计 (CCIG)。HCIG 和 CCIG 都通过测量压力计内高能电子与残留中性气体分子之间的碰撞产生的离子通量来确定压力。HCIG 使用来自灯丝的热离子发射作为电子源,而 CCIG 使用循环空间电荷来产生自由电子等离子体。在 HCIG(图 12)中,灯丝(阴极)通过热离子发射发射电子,电离栅上的正电势加速这些电子远离灯丝。电子在网格中振荡,直到它们最终撞击网格或气体分子。当电子撞击气体分子时,产生带正电的阳离子,该阳离子被称为收集器的负极加速并收集。以这种方式产生的电流与气相中产生的离子数量成正比,而气相中产生的离子数量又与气体密度成正比,因此也与气体压力成正比。
由于所使用的物理特性是气体特定的,因此间接压力测量读数总是取决于气体种类(即所有间接压力表都需要气体特定校准)。
皮拉尼压力计
皮拉尼真空计最早是在 1900 年代初开发的。传感元件是一种细线,它具有已知的电阻和已知的电阻温度系数(即,它的电阻如何随温度变化),它浸入气体中并被电加热。该元件构成平衡惠斯通电桥的一条腿。当气体分子与加热元件碰撞时,它们会如上所述从加热元件中提取热量,从而改变其电阻,从而使电桥相对于其参考状态失衡。由于碰撞次数以及因此传递给气体的热量与气体压力成正比,因此保持电桥平衡所需的功率与压力成正比。图 13 显示了现代MKS Instruments Convectron® 皮拉尼真空计的横截面以及残余氮气的功率与压力曲线。
 
图 13. (a) MKS Convectron® 皮拉尼真空计;(b) 具有氮气残余气体的系统中皮拉尼压力计的功率与压力曲线。
皮拉尼压力计对压力变化的响应取决于系统中存在的气体,因为每种气体都有不同的比热容。它还取决于气体的分子质量和适应系数,该系数说明了气体分子与皮拉尼元素接触的停留时间。因此,用户必须针对系统中预期的残余气体校准皮拉尼压力计。图 14 显示了氮气校准的皮拉尼真空计对不同残留气体的响应曲线(指示压力)的图形表示,说明了正确校准皮拉尼真空计的重要性。
 
图 14. 不同气体的对流压力读数与实际压力的关系。
在此示例中,指示的 10 托的氩气压力代表 1000 托的真实压力。该数据清楚地表明,皮拉尼压力计校准不当会导致严重的系统过压风险,从而引发安全问题。此外,由于皮拉尼元件在 100 至 150°C 的温度下工作,因此必须从压力表中排除会分解并在元件上沉积固体材料的反应性气体。由于传热显着降低到约 10 -4以下Torr, Pirani 压力计精度在此压力以下下降。在高压(10 托及以上)下,气体分子的平均自由程减小到非线性进入压力-电压关系并降低仪表灵敏度的程度。先进的皮拉尼真空计的构造允许真空计内的对流力帮助分子流动。后一种设计使皮拉尼压力计能够以高达 760 托压力的良好精度使用。皮拉尼真空计通常在收到时针对氮气进行校准,并且需要校准曲线才能与其他气体一起使用。皮拉尼压力计相对较快,可以在十分之一秒或更短的时间内响应压力变化。它们通常用于真空室粗加工管线、涡轮泵前级管线、负载锁、
MKS Instruments 的 275 Convectron Convectron 对流增强型皮拉尼真空压力传感器(图 13)和475 系列仪表控制器为 10 -4 Torr 到大气压之间的测量提供了异常稳定的性能。这些皮拉尼传感器在较高压力下采用对流辅助热损失,将传统皮拉尼压力表(通常为 10 托)的最大精确压力测量扩展到大气压。MKS 皮拉尼压力计可提供镀金线(标准)和铂线。虽然镀金线更准确,但铂线更耐化学腐蚀。MKS Instruments 还在MicroPirani™ 传感器的设计中利用了 MEMS 技术比传统的皮拉尼真空计具有更快的动态响应、更小的体积和更好的稳定性。MEMS 传感器的聚对二甲苯涂层可用于抗蚀刻化合物。
 
图 15. MKS Instruments MicroPirani™ 结构和商用仪表。
图 15 显示了 MicroPirani 传感器的示意图以及两个商业 MKS Pirani 压力计和采用该技术的系统的图像。
电离计
在低于 10 -4 Torr 的压力下,电容压力计和皮拉尼计等直接压力测量方法不再有效,因此必须使用依赖于气体密度的方法。压力与气体密度的关系如下式:
 
其中P是压力,c是常数,n是气体的数密度,T是温度。如上所述,电离计使用通过热电子发射或等离子体产生产生的自由电子来执行此测量。一旦校准了压力计,由负偏置收集器收集的离子电流可能与压力有关。电离规的基本规方程为:
 
其中Ic是离子电流,k是常数,n是残余气体分子的数量密度,Ie是电离电子电流。代入n并重新排列得到压力表达式:
 
这可以通过合并常数并将电离率定义为Ic / Ie来简化:
 
其中K是通过校准确定的与气体相关的常数,I是与分子密度成正比的电离率。
Bayard-Alpert (BA) 真空计是热阴极电离真空计,有效测量范围在 10 -11和 10 -2之间托。热阴极电离计具有三个电极:阴极或灯丝、集电极和阳极栅极。通常,集电极处于地电位,阳极为 180V,灯丝为 30V。从阴极发射的高能电子向阳极栅极加速,与气相中的分子碰撞并电离。碰撞中产生的正离子被加速朝向位于阳极栅轴上的收集器,产生由规静电计测量的离子电流。这种仪表配置在集电极电流和压力之间产生严格的线性关系。因此,集电极相对于灯丝和阳极是负的,电子只能到达阳极。测量的下限由 X 射线限值决定。在 HCIG 中,当电子撞击网格时会发射 X 射线。这些 X 射线中的一小部分会撞击离子收集器,导致电子通过光电效应喷射出来。由这种电子喷射产生的正离子被检测为正离子电流,有助于压力读数。最佳传统 HCIG 的测量下限约为 10-11 Torr 因为这个现象。通过良好的操作协议和适当的校准,Bayard-Alpert HCIG 读数的传感器间重复性通常约为 2%。读数的重复性为 1-2%,主要受无法控制的随机灵敏度变化限制。
 
图 16. 冷阴极电离规的内部配置、电子路径/离子生成和物理配置。
MKS 提供多种不同仪器配置的 Bayard-Alpert 压力计。传统的 BA 压力计,例如图 16 所示的裸露或玻璃封闭压力计,是一种稳定、经济的解决方案,用于测量高真空和超高真空状态下的压力。热阴极规的重复性为 1-2%。玻璃封闭仪表通常具有 ±25% 的仪表间重现性(未在工厂测试)。裸规配置的测量范围在 X 射线下限 (10 -11 Torr) 和 0.001 Torr 之间;玻璃封闭的 BA 量规具有稍高的测量下限 <1.0x10 -9 Torr。MKS Micro-Ion® Bayard-Alpert 真空计是最小的 BA 真空计,适合安装在复杂、拥挤的真空系统中。与传统的裸露或玻璃封闭仪表相比,它们提供了更坚固的封装,消除了玻璃破损的风险并确保了长期稳定性。Micro-Ion 规的规间重现性为 ±20%(在工厂测试)。这些仪表的范围(5x10 -10到 5x10 -2 Torr)比玻璃封闭的 BA 仪表更宽。MKS Instruments Stabil-Ion® BA 真空计带 Convectron 真空计选项是一种突破性的真空压力计,可提供最广泛的压力测量能力 (2.0x10 -11高达 999 Torr)和最佳的仪表间重现性(360 系列为 ±6%,370 系列为 ±4%),采用坚固封装,不会发生玻璃破损、玻璃分解或氦气渗透。Stable-Ion 真空计采用接地的金属测量管外壳进行完全静电屏蔽,可确保在存在外部电气干扰的情况下稳定运行。稳定离子规是第一个具有足够长期稳定性的电离规,可以证明将校准数据存储在内存中是合理的。每个 Stabil-Ion 压力计都提供基于 15 个单独校准的压力值的校准数据。参考主要参考标准(见下文)的 HCG 工厂具有 2-3% 的可重复性。
冷阴极电离计,CCIG,也称为 Penning 真空计,可提供 10 -12和 10 -2之间的有效真空压力测量托。这种类型的电离计使用两个电极之间的高 (kV) 电压来加速随机的、自然产生的自由电子(来自例如宇宙射线碰撞),这些自由电子与残留的气体原子碰撞,产生一个正离子和另一个自由电子。自由电子被磁场俘获,产生电子等离子体。等离子体中的原子或分子与 HCG 一样被电离和测量。在 CCIG 内,阳极是位于中心的保持在高电压的棒,阴极是与阳极同心的处于接地电位的圆柱形金属笼。陶瓷或稀土磁体围绕阳极/阴极排列(图 17a)。在操作中,交叉的电场和磁场控制电子电流路径,长时间捕获近乎恒定的循环电子电流,电极之间的环内的摆线轨迹(图 17b)。这些电子与残留气体分子碰撞,在阴极产生正离子通量,该通量与残留气体原子的数量密度成正比。
 
图 17. MKS Instruments 提供的 Bayard-Alpert 热阴极电离规。
MKS Instruments 提供冷阴极真空计,例如971B UniMag™ Cold Cathode 真空传感器、972B DualMag™ Cold Cathode MicroPirani 真空传感器和974B QuadMag™ Cold CathodeMicroPirani-Piezo 真空传感器。971B UniMag 的测量范围从 1x10 -8到 5x10 -3 Torr,DualMag 的测量范围从 1x10 -8 Torr 到大气压,QuadMag 压力计的测量范围从 1x10 -8托至 1500 托。与所有电离真空计一样,MKS Instruments 的 HCIG 和 CCIG 真空计必须针对真空系统中预期的残余气体进行校准。然而,由于不同的工作原理,CCIG 需要与 HCIG 不同的气体校正因子。CCIG 的可重复性通常不如 HCIG 一致,典型值约为 ±5%,传感器间的可重复性值为 30%。对于高精度操作,CCIG 通常根据传输标准进行校准,例如旋转转子量规或高精度 HCIG。虽然 CCIG 具有不会烧坏的热灯丝的优点,但它们会受到压力指示随时间漂移、压力指示与真实压力的不连续性以及启动不确定性的影响。
主要参考标准量规
旋转转子规
旋转转子压力计 (SRG)是压力测量的主要参考标准。与皮拉尼计一样,SRG 也称为分子阻力计或粘度计,测量从传感器到周围气体的能量传递,以确定气体的数密度。在旋转转子真空计的情况下,一个小钢球被磁悬浮在一个水平安装并连接到真空系统的非磁性管中。图 18 显示了 SRG 的示意图。
 
图 18. 旋转转子量规。
在测量过程中,使用旋转磁场将球旋转到几百赫兹,然后关闭驱动场并使用磁传感器测量球的减速率。由于减速是由碰撞过程中从球到气体分子的能量转移引起的,使用气体动力学理论,它可以与气体的数密度相关,从而与压力相关。SRG 对气体种类很敏感,它们通常用作校准其他仪表类型的参考仪表。
固定长度光学腔 (FLOC) 测量仪
 
图 19. FLOC 器件光学腔。
MKS Instruments 与 NIST 合作开发基于光学测量的新压力主要标准。固定长度光学腔 (FLOC) 压力计是一种便携式设备,它使用光来测量压力,其准确度和精度比大多数商用压力计都高。它测量通过两个光学腔、一个参考真空通道和一个充满被测气体的通道的光频率的细微差异。有关 FLOC 压力测量装置的更详细讨论,请参见 https://www.nist.gov/news-events/news/2019/02/floc-takesflight-first-portable-prototype-photonic-pressure-sensor。
结论 - 真空计选择
许多不同类型的真空计可用于具有不同范围、精度和材料要求的应用。对于给定的真空应用,真空计的选择取决于预期的真空环境和测量所需的准确度。例如,预期在沉积或蚀刻期间测量工艺压力的仪表必须必然暴露于工艺气体中。这可能会影响测量精度并导致仪表组件出现物理化学问题。如果在残余气体的化学性质未知的系统中需要真空计来测量基础压力,则测量依赖于被测气体的分子特性的真空计可能不适合。在制造环境中,量规选择具有成本效益也很重要。在真空计的情况下,根据设计和相关的辅助设备,真空计成本可能会相差几个数量级。一旦确定了真空计范围、精度、工艺兼容性和成本的规格,选择最符合这些规格的真空计就很重要。
 
表 2. 不同真空计类型的性能和成本比较。
表 2 提供了不同类型真空计的性能和成本比较,图 20 提供了使用直接和间接真空计的最佳压力状态的快速直观指南。
美国MKS真空计直接和间接真空计的测量范围
图 2. 直接和间接真空计的测量范围。
 
无锡飞斯卡精密科技有限公司专业从事各大科研院校等质量流量控制系统的销售与服务。是质量、流量、压力、真空、温度测量与控制系统的专业供应商。质量流量控制事业部专业从事销售服务世界著名的MFC,知名品牌有:美国mks流量计,美国BROOKS流量计,美国MKS真空计,德国普发真空计,日本HORIBA流量计,Brooks、MKS、HORIBA, UNIT、Tylan、AE、STEC、Alicat等,品种规格齐全,同时经销真空和镀膜设备的品牌包括:INFICON(膜厚控制仪、真空计/真空规、四极质谱仪、压强控制系统、氦质谱检漏仪、冷媒检漏仪、真空阀门),COMDEL、AE、HUETTINGER(直流电源、射频电源、中频电源),VARIAN、PFEIFFER真空泵等;气体压力及流量测量和控制, 射频 /直流 /微波电源发生器及测量工具, 氟离子 /臭氧反应气体发生器, 真空产品, 气体分析仪, 静电控制及信息和控制技术等产品。我们知名的气体流量校准系统,对任何品牌的MFC都可精确的清洗校准。外观光洁如新,性能可靠,原厂验收标准。